JST中国文献ディレクトリ｜DT低温ターゲットの階層技術

整理番号	09A0468673
和文標題	DT低温ターゲットの階層技術
英文標題	Layering technology of DT cryogenic targets
著者名	Peng Shuming (Inst. Of Nuclear Physics And Chemistry, Mianyang), Zhang Weiguang (Inst. Of Nuclear Physics And Chemistry, Mianyang), Long Xinggui (Inst. Of Nuclear Physics And Chemistry, Mianyang), Xia LiDong (Inst. Of Nuclear Physics And Chemistry, Mianyang), Chen Shaohua (Inst. Of Nuclear Physics And Chemistry, Mianyang), Yinjian (Inst. Of Nuclear Physics And Chemistry, Mianyang)
地域名（省レベル）	四川省	地域名（市レベル）	綿陽市
資料名	Diwen Gongcheng	和文資料名	低温工程
JST資料番号	C2351A	ISSN	1000-6516
巻号ページ（発行年月日）	No.6 Page.60-63 (2008)
発行国	China (CHN)	言語	Chinese (ZH)
抄録	高密度のDT燃料標的を球状の中空なカプセルにおけるDTの重力を克服するためにICF着火用として造った。I3階層,IR階層,およびプラズマ拡大階層技術は海外における一般的な技術であった。これらの技術の基本原理,DT均一性の因子影響性質,およびこれらの技術の装置を紹介した。 Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST
シソーラス用語	低温工学, 低温, 熱伝達, 冷却系機器, ターゲット, 技術, プラズマ, 均一性, 密度
準シソーラス用語	高密度
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